言情社区 > 都市言情 > 首富从盲盒开始 > 第376章
  这可是上亿美元的大单呀!!
  木村真琴卖出去的那只脚硬生生的收了回来,他几乎没有任何犹豫,就重新做到了黄鹤对面,然后主动低头道“黄桑,请原谅我刚才的失礼,你应该能够理解我的态度的,非常抱歉!”
  堂堂的尼康社长木村真琴,居然就这么非常干脆的向黄鹤道歉了,这简直是一件看上去非常不可思议的事情,毕竟韩国人折腾了几十年的时间,都没有换来日本人的一句道歉,结果木村真琴现在就非常干脆的道歉了。
  这里就必须要提到日本人的两面性了,在日本,道歉是最简单也是最困难的事情,在不涉及利益,或者要损失利益的情况下,你让日本人道歉是绝对不可能的,你就算愤怒的把他的大使馆给砸了,那也是不可能的。
  但是相反,如果一个道歉能够带来巨大的利益的话,那他就会立刻找来蒲团,跪在上面,恭恭敬敬的向你道歉。
  木村真琴大概就是这样的情况,且不说阿斯麦的事情,如果十台光刻机是真的,那木村真琴无论如何道歉,也要把黄鹤这个客户给笼络到手中的。
  “日本人能够成功,果然不是没有原因的!”黄鹤感叹一声,然后接着说道“既然木村社长的态度如此诚恳,那我也不跟您弯弯绕绕了,我直接说吧,阿斯麦已经得到了跨越50纳米的技术极限的钥匙了,最迟两年的时间,阿斯麦的第1台48纳米级别的光刻机就能够上市。”
  “这不可能!”木村真琴又一次高呼出了不可能三个字,但这一回他脑门上全部都是汗水,身上穿的和服,甚至都在这一瞬间被汗水给浸透了。
  50纳米的技术极限,这是全球捆在所有光刻机企业脖子上的绳索,自从10年前到达这个极限之后,无论是尼康还是佳能,几乎每年都要投入1-2亿美元的巨额资金来研发突破这个极限的途径。
  为了突破这个极限,全球各个光刻机行业的专家们提出了几种途径,其中包括157nm f2激光,电子束投射,离子投射、euv和x光,并形成了以下几大阵营:
  其中f2激光技术,这是目前在理论和技术上最为成熟的阵营,在浸润式光刻机出现之前,几乎所有的光刻机企业研究的都是这个技术,目前是美国的svg和日本的尼康,在这两个技术上走的最远,尤其是尼康,他们估计再有个5年左右的时间,就能够拿出最终的产品出来了。
  但是这个技术有一个巨大的缺陷,那就是生产成本巨大,改造成本也更加的巨大,而且这个技术的天花板,也就是从50纳米提高到了40纳米左右,提升的幅度只有20%,是典型的投入和产出相差极大的案例。
  如果用这种办法制造出来的芯片,最早是现在同等级芯片的价格的三倍以上,如果投放到市场上,他未来所有顶级芯片的旗舰手机的起步价格,就最少要提交2000元人民币左右了。
  但这依然是目前最有可能成功的技术。
  euv技术,这是技术前景最为光明的,但也是最困难的技术,因为这个技术要从直接改革光源入手,将目前的光刻机光源改革成为紫光,直接从光源上,把50纳米的极限提升到13.5纳米的极限,提升幅度可谓巨大,绝对是市场前景最为广阔的技术。
  这个技术难度极高不说,关键是几乎所有的专利和门槛都掌握在美国人的手里面,分布在英特尔,amd,摩托罗拉和美国能源部这些单位之中,尼康手里面几乎没有这方面任何的技术专利。
  本来作为美国的小老弟,以前的日本或许还有机会加入到这样的专利联盟手中,但是自从花园广场协议一签,所有日本人都知道美国是打定了主意要打压日本的半导体行业,他们是绝不可能允许日本企业进入到euv技术联盟之中的,否则花园广场协议就白签了。
  这里就不得不说一句,其实美国是一家,非常公平和公正的国家,对于能够威胁到自己技术优势的对手,他们会立刻打压。
  同样的,如果是自己的狗威胁到了自己的技术优势,那也是一样要打压的。
  比如在90年代后期,日本的半导体行业几乎已经要将美国的半导体行业给彻底撕碎了,他们占据了90%以上的市场。
  结果花园广场协议一签,日本半导体行业瞬间崩溃,等到了2020年,日本的半导体行业连苟延传统的资格都没有了,直接就变成了一具尸体,而日本政府却只能对美国唯唯诺诺,连一句反对的声音都听不到。
  不像中国,来,大家正面干。
  咳咳,言归正传,其实在技术上还有一个比euv更加梦幻的技术,叫做接近式x光技术,这个技术可以将光源从13.5纳米,一口气提升到一纳米的水平,这是显然是一个更加疯狂的光刻机技术。
  而这也是目前整个日本光刻机行业倾力投入的技术,他们梦想着一旦等这个技术开花结果,那就算是euv再怎么排斥日本也是抓瞎,因为大家根本就不在一个水平面上面了。
  只不过,倪光南曾经非常形象的形容过这个技术阵营,说这是一个浪漫主义的技术阵营,大家就当科幻小说来读就好了。
  其实后面还有更加科幻的技术,比如光源波长在千分之四纳米的ebdw技术。
  还有更加恐怖的光源波长在十万分之五纳米的ipl技术,这些技术,估计要等到击败三体人之后,才有可能看到了。